產(chǎn)品類型
機(jī)械設(shè)備,中國
廠家簡介
北京金盛微納科技有限公司為國家高新技術(shù)企業(yè)、中關(guān)村高新技術(shù)企業(yè),中國真空學(xué)會理事單位,中國電子專用設(shè)備工業(yè)協(xié)會、中國微米納米技術(shù)學(xué)會會員單位。主要從事半導(dǎo)體設(shè)備、微細(xì)加工設(shè)備的產(chǎn)品研制、設(shè)計(jì)開發(fā)、生產(chǎn)銷售,并開展相關(guān)工藝的研究及應(yīng)用。主要產(chǎn)品有:勻膠機(jī)(SC)、烘膠臺(BP)、曝光機(jī)、刻蝕機(jī)(RIE、ICP、IBE)、等離子體淀積臺(PECVD)、磁控濺射臺(Sputter)、去膠機(jī)、濺射/刻蝕/淀積一體機(jī)、鍵合爐等。產(chǎn)品應(yīng)用范圍涉及微電子、光電子、LED、MEMS、傳感器、平板顯示、通訊等領(lǐng)域,主要用于科研機(jī)構(gòu)、大專院校、生產(chǎn)企業(yè)和公司進(jìn)行各種器件的研究、開發(fā)和批量生產(chǎn)。公司建有“微細(xì)加工工藝示范線”以“開放實(shí)驗(yàn)室”的形式對各大專院校、研究院所、企業(yè)等相關(guān)研究、生產(chǎn)單位開放。在“開放實(shí)驗(yàn)室”里用戶可獲得:設(shè)備選型、項(xiàng)目預(yù)研與立項(xiàng)、合作攻關(guān)、工藝培訓(xùn)、外協(xié)加工等服務(wù)支持。
RIE-501全自動反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
本產(chǎn)品通過物理與化學(xué)相結(jié)合的方法,對很細(xì)的線條(亞微米以下)進(jìn)行刻蝕以形成精細(xì)的圖形。
本設(shè)備具有選擇比較好、刻蝕速度較快、重復(fù)性好、性價(jià)比較高等特點(diǎn)。可刻蝕的材料主要有Poly-Si、Si、SiO2、Si3N4、W、Mo、GaN、GaAs等。
本產(chǎn)品通過對真空系統(tǒng)、工作壓強(qiáng)、射頻電源匹配、氣體流量及工藝過程的全自動控制,使工藝的重復(fù)性、穩(wěn)定性、可靠性得到有效保證,從而獲得較高的刻蝕速率,并能精確地控制圖形的剖面。
本設(shè)備的數(shù)字化參數(shù)界面和自動化操作方式為用戶提供了優(yōu)良的研發(fā)和生產(chǎn)平臺。
本產(chǎn)品通過軟、硬件相互配合的互鎖、智能監(jiān)控、在線狀態(tài)記憶、斷點(diǎn)保護(hù)等設(shè)計(jì),結(jié)合各種硬保護(hù)裝置、使設(shè)備的安全性、可靠性得到有效保證。
本產(chǎn)品主要用于微電子、光電子、通訊、微機(jī)械等領(lǐng)域的器件研發(fā)和制造。
BP-2B型烘膠臺
烘膠臺產(chǎn)品用于光刻工藝中的前烘、后烘和堅(jiān)膜。本產(chǎn)品具有烘膠速度快、均勻、控溫精度高等特點(diǎn),并可長時間連續(xù)穩(wěn)定工作。本產(chǎn)品操作方便、穩(wěn)定性高,具有較高的性能價(jià)格比,可廣泛應(yīng)用于科研和生產(chǎn)。
全自動型等離子體化學(xué)氣相淀積臺(PECVD-802)
本設(shè)備是“標(biāo)準(zhǔn)型等離子體化學(xué)氣相淀積臺(PECVD)”的全自動產(chǎn)品。可用來淀積SiO2、Si3N4、非晶硅、碳化硅、類金剛石等多種薄膜材料,這些薄膜材料在微電子、微機(jī)械、光電子、通訊等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用;在能源材料、機(jī)械材料、各種無機(jī)材料及高分子材料的薄膜制備和表面改性中,也顯示出獨(dú)特的功能和巨大的潛力。
PR-6 生產(chǎn)型去膠機(jī)
產(chǎn)品主要性能指標(biāo)
型號:PR-6
真空系統(tǒng):機(jī)械泵系統(tǒng)
反應(yīng)室規(guī)格:直徑270*長350
裝片量:6寸,12片
去膠速率:0.1-1um/min
去膠不均勻性:≤±10%
外形尺寸:630*620*1450mm